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导电泡沫电镀工艺和电气性能:康丽达如何优化涂层结构以实现EMI可靠性

导电泡沫电镀工艺及电性能优化

在导电泡棉材料中,表面涂覆工艺直接决定了电气性能的上限。康丽达通过先进的电镀工艺控制,在保持机械完整性的同时,优化了涂层的均匀性和附着力,实现了表面电阻垂直接触电阻的协同作用。


1. 电镀工艺对表面电阻的影响

根据ASTM D4935, 表面电阻测量泡沫的平面电导率。它主要取决于三个因素:涂层连续性, 厚度粘附强度

康丽达采用“化学镀+电镀”混合工艺

  • 化学镀镍:形成均匀的催化层(0.5-1 µm),确保强附着力。

  • 电镀铜:建立导电层(3-5μm),降低体积电阻。

  • 镍或银顶层:提供抗氧化性和表面耐久性。

康丽达导电泡棉电镀结构——化学镀镍、电镀铜、银保护涂层三层工艺。

实验结果表明,将铜厚度从2 µm 增加到 5 µm可使表面电阻从0.1 Ω/sq 降低到 0.05 Ω/sq. A 低于 5% 的均匀系数 (CV)是实现大面积稳定低电阻的关键。

详细了解EMI 屏蔽导电泡沫的性能参数:技术参数和选择指南


2. 涂层结构与垂直接触电阻

垂直接触电阻 (MIL-STD-202G)评估泡沫在压缩状态下的导电效率。它对涂层硬度高度敏感延展性微观表面形貌

康丽达通过调整镀液化学性质和电流密度来改善镀层的晶体结构:

  • 高电流密度:产生具有更高硬度和更小压痕深度的细晶粒涂层。

  • 脉冲电镀:提高延展性并防止压缩下开裂。

  • 等离子微纹理:产生微米级的凹凸不平以扩大有效接触面积。

铜涂层厚度与表面电阻的关系——康丽达通过优化电镀达到0.05Ω/sq。

5 公斤压力下,康丽达导电泡沫保持<8 mΩ 接触电阻经过 1,000 次压缩循环后电阻增加不到 10% - 远远优于标准涂层。


3. 涂层与基材之间的附着力控制

涂层与基材的附着力决定了长期EMI可靠性。当剥离强度低于1.0 N/mm时,在热循环或振动条件下可能会发生分层。

为了提高粘合性,康丽达采用了多步骤界面增强工艺

  • 等离子活化:将表面能提高到 50 mN/m 以上。

  • 偶联剂处理:在聚合物和金属层之间建立化学键。

  • 梯度过渡层:添加 Ni-Cu合金缓冲层以缓解层间的热应力。

经过70℃×1000h老化试验,涂层无起泡、剥落现象,表面电阻变化<15%。

有关结构机械优化的更多信息,请参阅导电泡沫压缩-恢复曲线分析:如何匹配结构间隙中的压力


4. 优化工艺参数

康丽达保持严格的过程控制框架,以确保一致的 EMI 性能:

  • 浴温:控制在±1℃以内,防止晶体异常生长。

  • pH 稳定性:自动调节至 4.2–4.6,实现均匀沉积。

  • 动态电流补偿:根据产品宽度进行调整,以保持涂层均匀性。

  • 后处理:钝化可增强抗氧化性和储存寿命。

 Konlida导电泡沫剥离强度测试——附着力>2.0 N/mm,无分层。


5. 业绩总结

导电泡沫的性能取决于工艺精度,而不仅仅是材料成分。
康丽达通过精细化的电镀控制,实现:

  • 表面电阻≤0.05Ω/sq

  • 垂直接触电阻≤8mΩ

  • 剥离强度>2.0N/mm

这些参数定义了一个平衡的机电系统,非常适合高频 EMI 屏蔽, 汽车电子下一代通信设备等。

康丽达持续开发新一代导电泡沫涂料,兼具机械耐久性, 低阻抗耐环境性,为EMI可靠性树立了新的标杆。

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导电泡沫压缩-恢复曲线分析:如何匹配结构间隙间的压力
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